中国工程院院士吴汉明本地可控的 55nm 比进口 7nm 更有意义

本月早些时候,在中国工程院主办的中国工程院信息与电子工程前沿论坛上,中国工程院院士吴汉明对我们目前面临的光刻机、产业链国产化等关键问题进行了分析。 他认为,我国集成电路产业目前正面临两大壁垒:政策壁垒和产业性壁垒。前者包括巴统和瓦森纳协议

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